項目名稱：半導體光刻膠生產控溫

使用設備型號：光刻膠控溫模溫機

在半導體材料行業，一家創新型公司面臨著光刻膠的溫控難題。光刻膠制程要求高精度的溫度控制，確保制造過程中的質量穩定。由于反應放熱，150攝氏度的制程溫度對設備提出了挑戰。為此他們需要一款能夠控制溫度的模溫機，同時兼顧效率的解決方案。

光刻膠制程對溫度要求高度穩定。在制程過程中，反應放熱也會導致溫度波動，因此需要有強大的冷卻功能。我們為其選擇了1平方米的板式換熱器，以確保在高溫下能夠穩定控制溫度。

控溫對象即為光刻膠的制程溫度。150攝氏度的控溫要求在制造過程中始終保持穩定，以確保產品質量和穩定的產能。反應放熱需要在控制范圍內快速散熱，以防止溫度波動影響制程。

光刻膠控溫模溫機型號為EUOCBF，功率為6KW。該設備擁有隔離式防爆設計，符合EXdIIBT4標準，確保了制程。采用PLC編程控制，冷卻功能也得到了有效實現，為制程提供了可靠的支持。

光刻膠控溫模溫機是客戶制程優化的關鍵一環，在高溫環境下穩定工作，其防爆設計為生產保駕護航，智能控制讓制程更加可控。